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而最近,IBM和他的合作伙伴(GlobalFoundries、三星、纽约州立大学纳米理工学院)通过硅锗晶体管、EUV光刻技术在半导体工艺上实现世界性的技术突破,他们率先于Intel制作出了世界首颗工作版的7nm的芯片。 纽约州立大学的Michael Liehr(左)和IBM的Bala Haranand正在看着世界首片7纳米的晶圆,真是不由得感慨一句,摩尔定律还未失效,IBM和几位大佬真是人类的希望呢。 由于7nm的出现,甚至能让晶体的密集度达到今天14nm的两倍!IBM也声称,这一突破让芯片能容纳超过200亿个晶体管。Intel总是能通过更小的制程对芯片进行改进,现在他们就一直致力于14nm的工艺,同时业内专家也认为,若是依然采用硅晶体管,将很难实现更小的制程。
世界首颗工作版的7nm芯片 而现在IBM的同盟成功的研制出了可正式投入工作的7nm芯片,他们这次放弃使用纯硅材料,而是转而采用硅锗,这种新材料具有更高的电子迁移率,能更快的开关晶体管,实现更低的功耗。 同时EUV光刻技术这次功不可没,虽然半导体公司都一直在研究EUV光刻技术,但是受限于技术,资金等等问题,一直未将该技术应用到半导体的制作生产中,IBM的同盟也是世界首个在生产线上运用该技术的厂商。但是由于EUV光刻技术的成本较高,IBM他们也觉得该技术必须得降低该技术的成本,这样才能在尽快的将7nm工艺投入量产。悉知,荷兰半导体厂商艾司摩尔(ASMLHoldingNV)研发的EUV设备一台要价1.5亿美元,相较之下其它种类微影系统一台售价只有5000万美元。 英特尔方面,其对14nm制程技术的校正进度已延迟约六个月,目前则在开发10nm技术、有望于2016年问世。英特尔资深主管MarkBohr最近曾表示,该公司的7nm制程应该不需要改用EUV设备,但他并未透露更多细节。 IBM表示,目前的7nm已经是非常极限的一个制程,如果还想往下将制程做的更小,就必须得依赖于更新型的材料如石墨烯,否则将很难进行突破,虽然第一个工作版的7nm芯片已经出来,但若是要等到量产,最少得到2018年。 |